中国台湾真空镀膜设备公司

【离子镀的历史】： 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】： 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表 面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】： 优点：膜层附着力好，膜层致密，具有绕度性能，能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点：离子镀的应用范围不广；膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。真空镀膜设备技术教程。中国台湾真空镀膜设备公司

【真空镀膜设备的分类】：这个问题如果在十年之前，其实是很容易回答的，就是两个大类，物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的，但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了，所以从应用领域上可以分成以下几类：传统光学器件（镜片，滤光片）所用的镀膜设备：单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备，溅射式镀膜设备。新材料领域的柔性设备：卷对卷柔性镀膜设备。光通讯行业：离子束溅射镀膜设备。半导体及相似工艺：化学气相沉积设备。功能膜：多弧离子镀设备，溅射设备，蒸发设备玻璃工艺：溅射式连续线其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了，例如车灯镀膜设备，太阳能的共蒸发设备，光纤镀膜设备，太阳能管设备等等陕西真空镀膜设备的使用方法真空镀膜设备的主要应用。

【离子镀膜法之射频离子镀】： 射频离子镀(RFIP):利用电阻或电子束加热使膜材气化；依靠射频等离子体放电使充入的真空Ar及其它惰性气体、反应气体氧气、氮气、乙炔等离化。这种方法的特点是：基板温升小，不纯气体少，成膜好，适合镀化合物膜，但匹配较困难。可应用于镀光学器件、半导体器件、装饰品、汽车零件等。射频离子镀膜设备对周遭环境没有不利影响，符合现代绿色制造的工业发展方向。目前，该类型设备已经guang泛用在硬质合金立铣刀、可转位铣刀、焊接工具、阶梯钻、钻头、铰刀、油孔钻、车刀、异型刀具、丝锥等工具的镀膜处理上。 此外，离子镀法还包括有低压等离子体离子镀，感应离子加热镀，集团离子束镀和多弧离子镀等多种方法。

、根据自己的产品定位来选择镀膜机厂家的等级。如果产品定位是市场，那就要对应选择中的设备，如果不是那就选择中端或者低端即可。第二、中的镀膜机设备稳定性一定要好，且要保证配件的可靠性。因为真空镀膜机本身就是一个比较复杂的系统，包括真空、自动化等多个系统，任何一个系统的部件不可靠都会直接影响着整个机器运行的稳定性和可靠性，从而给生产带来不便。第三、可以观察一下同行业或者一些的公司都在使用哪家的真空镀膜机，这也是减小风险的一种有效方式。真空镀膜设备的工作原理和构成。

【真空镀膜改善薄膜应力】： 1. 镀后烘烤，Zui后一层膜镀完后，烘烤不要马上停止，延续10分钟“回火”。让膜层结构趋于稳定。 2. 降温时间适当延长，退火时效。减少由于真空室内外温差过大带来的热应力。 3. 对高反膜、滤光膜等在蒸镀过程中，基片温度不宜过高，高温易产生热应力。并且对氧化钛、氧化钽等膜料的光学稳定性有负面影响。 4. 镀膜过程离子辅助，减少应力。 5. 选择合适的膜系匹配，第yi层膜料与基片匹配。 6. 适当减小蒸发速率。 7. 对氧化物膜料全部充氧反应镀，根据不同膜料控制氧进气量。真空镀膜机详细镀膜方法。福建索佳真空镀膜设备有限公司

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【真空镀膜机概述】：真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子抢加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机构造的五大系统：排气系统、控制系统、蒸镀系统、监控系统、辅助系统。真空镀膜三要素：真空度、抽气时间、温度；任何镀膜工艺都需要为这三个要素设定目标值；因此，只有当三个条件同时满足时，自动化程序才会自动运行。真空镀膜机需要做定期定期保养，目的在于：让镀膜机能长时间地正常运转；降低故障时间，避免影响产能，减少损失；提高机器精度，稳定品质；加快抽气速度，提升机器利用率等。中国台湾真空镀膜设备公司

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